반도체 제조 공정에서는 NF3(삼불화질소)와 COS(탄화황소) 가스 감지가 필수적입니다. 하지만 기존 감지 방법은 공정 내 사용되는 다른 물질들과의 간섭으로 인해 오탐지 문제가 자주 발생했습니다.
NF3 감지: 일반적으로 피롤라이저를 이용해 NF3를 분해한 후 전기화학식 센서로 감지하지만, 이 과정에서 간섭 가스들도 함께 분해되어 오탐지가 발생할 수 있습니다.
COS 감지: 매우 낮은 농도에서도 감지가 필요하지만, 전기화학식 센서는 IPA(이소프로필 알코올) 등 청소 공정에 사용되는 물질들과 반응해 오탐지를 일으킬 수 있습니다.
SENKO는 이 같은 간섭 문제를 해결하기 위해 NDIR(비분산 적외선) 기반의 NF3 및 COS 센서를 개발했습니다. NDIR 센서는 타 물질 분해 없이 대상 가스를 직접 감지하기 때문에 보다 정확하고 신뢰성 높은 측정이 가능합니다.
오탐지 감소: 제조 공정 중 사용되는 다른 화학물질에 대한 간섭 최소화
정확한 감지: NF3와 COS를 직접 감지하여 신뢰성 향상
신뢰성 향상: 반도체 제조 공정에서 보다 안정적인 운영 지원
SENKO의 NDIR 기반 센서는 SI-H100 반도체용 가스 감지기에 적용되어, 반도체 산업에서의 안전성과 운영 효율성을 크게 향상시킵니다.
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